1 Назначение:
Установка предназначена для производства в автоматическом режиме монокристаллов лейкосапфира методом Киропулоса диаметром до 200 мм, высотой и массой до 38 кг.
Установка позволяет выращивать кристаллы с точностью поддержания мощности ±0,1%, с регулируемой скоростью перемещения верхнего штока от 0,1 до 10 мм/час и с частотой вращения от 1 до 15 мм/мин.
2 Основные технические характеристики:
|
Наименование параметров |
|
|
Масса кристалла, не менее, кг |
35 |
|
Наружные размеры тигля, мм |
Ø250×410 |
|
Способ нагрева |
резестивный |
|
Материал тигля |
вольфрам |
|
Материал нагревателя |
вольфрам |
|
Рабочеедавление в камере, не более, торр |
5×10-5 |
|
Размер рабочей камеры, мм |
|
|
- диаметр |
640 |
|
- высота |
1000 |
|
Мощность потребляемая при выращивании кристалла, не более, кВт |
45 |
|
Рабочий ход штока, мм |
250 |
|
Скорость рабочего перемещения штока, мм/час |
от 0,1 до 10 |
|
Частота вращения штока об/мин |
от 1 до 15 |
|
Расход охлаждающей воды, не более, м3/час |
3 |
|
Параметры электропитания |
|
|
- напряжение питающей сети |
3×380/220 |
|
- частота, Гц |
50 |
|
- нагреватель |
однофазный |
|
Потребляемая мощность(максимальная), кВт |
75 |
|
Размеры установки, мм |
|
|
- длина |
2025 |
|
- ширина |
2150 |
|
- высота |
2800 |
|
Масса установки, кг |
2340 |